近日，华中科技大学教授、武汉太紫微光电科技公司（简称“太紫微”）创始人朱明强团队，联合武汉纺织大学、九峰山实验室、武汉新芯集成电路制造有限公司，研发出一种基于单一均聚物PDHF的新型光刻胶体系，相关成果发表于国际学术期刊《Nature Communications》。

光刻胶是芯片制造的核心材料之一，相当于芯片电路的“底片”——光刻时，光刻胶把设计好的电路图案“印”到晶圆上，再通过刻蚀把图案固定下来，最终形成芯片内部的电路结构。光刻胶的质量直接决定了芯片的精度和成品率。

传统光刻胶通常只能处理一种图案模式（正性或负性），而该团队研发的PDHF新型光刻胶，通过控制曝光剂量，可在同一张“底片”上实现负性、正性以及边缘保留型三种图案化模式。这一特性有望帮助芯片制造厂商简化材料管理流程、缩短工艺验证周期，从而有效释放产能、降低生产成本。该研究已获得国家自然科学基金、免费av影片自然科学基金等多个项目支持，有望为高端半导体芯片光刻胶的国产化替代提供一条新的技术路径。

PDHF光刻胶依赖曝光剂量，发生交联、降解的演化过程及曝光剂量依赖的三种图案化模式的光刻工艺流程示意图

太紫微成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。公司主要聚焦于高端光刻胶、光刻材料及电子级化学品的研发与生产，是国内半导体光刻胶领域的新兴力量。