中微公司成立于2004年，是国内半导体设备龙头企业，已开发出54种高端半导体设备，包括26种高能和低能等离子体刻蚀机设备，24种各类薄膜设备、化学机械抛光设备和量检测设备。刻蚀设备已覆盖65纳米到3纳米工艺节点，刻蚀和薄膜设备的加工的精度已经达到了原子级水平。累计已有超过8800个反应台应在国内外220余条生产线实现量产。2025年实现营收约123.8亿元，经营业绩创历史新高，未来整体生产能力将提升至700亿元。

 中微公司生产车间

中微半导体设备（武汉）有限公司注册资本5000万元，计划在光谷存算双创园建设华中总部及研发中心，开展薄膜、刻蚀、外延等核心半导体设备的研发，服务武汉乃至华中地区重点客户。预计落户员工约300人，其中研发人员达100人。

光谷是全国四大集成电路产业基地之一，集聚产业链企业超300家，形成了硅基半导体与化合物半导体双轮驱动的产业布局，覆盖芯片设计、材料、制造到封测全链条。2025年光谷集成电路产业规模突破千亿元，目前已成立集成电路产业发展专班，加速建设化合物半导体、存储器两个千亿级产业创新街区，打造世界一流集成电路产业生态。